真空等離子清洗設(shè)備是一種應(yīng)用于各個工業(yè)領(lǐng)域的清洗設(shè)備，航空航天、電子、半導(dǎo)體、光學(xué)器件等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，是現(xiàn)代工業(yè)清洗的重要設(shè)備。

真空式等離子清洗機主要由清洗室、真空系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、氣體供給系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成，其工作流程如下：將待清洗的物體放置在清洗室內(nèi)，關(guān)閉清洗室門，確保設(shè)備處于密封狀態(tài)，啟動真空系統(tǒng)，抽取清洗室內(nèi)的空氣，建立真空環(huán)境，啟動等離子發(fā)生器，產(chǎn)生等離子體，將清洗介質(zhì)轉(zhuǎn)化為高能粒子，清洗介質(zhì)的高能粒子對物體表面進行沖擊，去除附著的污垢和雜質(zhì)，關(guān)閉等離子發(fā)生器和真空系統(tǒng)，等待清洗室內(nèi)的壓力恢復(fù)到大氣壓，打開清洗室門，取出已清洗的物體，完成清洗過程。

真空等離子清洗設(shè)備的特點

1、利用等離子體的高能粒子，能夠徹底去除物體表面的污垢和雜質(zhì)，達到高效清洗效果。

2、清洗過程中無需使用化學(xué)溶劑，不產(chǎn)生廢水廢氣，具有較好的環(huán)保性能。

3、適用于各種材質(zhì)的物體表面清洗，具有較強的適用性。

4、采用PLC控制系統(tǒng)，操作簡便，可根據(jù)不同情況進行參數(shù)調(diào)節(jié)。

5、可以根據(jù)物體的清洗要求調(diào)節(jié)清洗介質(zhì)的流量和壓力，實現(xiàn)清洗效果的可控。

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